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新型真空镀膜工艺与装备实验室
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实验室简介:
 
长期聚焦于以等离子体物理为基础的物理气相沉积技术(高功率脉冲磁控溅射HiPIMS、常规溅射技术、阴极弧、离子注入、微弧氧化等)、装备(真空和电源)、模拟计算、工艺与应用的研究,其中工艺部分涉及硬质涂层、装饰涂层、生物涂层、薄膜太阳能电池、薄膜固态锂电池等一系列先进领域。课题组以科研为主线,成果产业化为目标,为国家重大工程装备制造、精密零部件制造、新材料开发等领域提供重大的技术支撑。
 
实验室主要研究领域:
 
1、  高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS or HiPIMS)研究与装备开发
2、  基于等离子体物理的材料表面改性与应用涂层开发
3、  锂电池材料界面处理与全固态电池
4、  基于纳米结构的薄膜太阳能电池研究
 
实验室主要成果展示:
 
1、真空放电装备开发:
A、高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)研究


HiPIMS-PIID技术的提出
 

HiPIMS-PIID技术制备CrN涂层界面
 
新型金属等离子体源的研制
 

自主设计复合真空处理平台设计与制造
 
2、特种真空镀膜技术与应用:
 


抗菌涂层
 
3、锂电池材料界面处理与全固态电池:

去极化“全活性电极”设计与制备

去极化电极充放电性能
 

电化学原位界面调控法——提前放电

提前放电与否电化学性能(a)未放电样品;(b)提前放电样品;(c)循环性能对比;(d)倍率性能对比
 
4、基于纳米结构的薄膜太阳能电池研究:
                                       

插入式背电极复合结构
 


联系人:吴忠振  特聘研究员
Email:wuzz@pkusz.edu.cn