科学研究

学院在原子层沉积表面修饰锂离子电池材料领域取得进展

发布时间:2015-11-24

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       原子层沉积(ALD)技术是一种先进的在原子尺度可控的薄膜气相沉积技术,能够精确地逐层控制薄膜生长过程。近年来,利用ALD技术对电极材料进行表面修饰逐渐成为锂离子电池领域的研究热点,并引起了工业界的广泛重视。
       在潘锋教授和王新炜特聘研究员的指导下,依托学院原子层沉积实验室,博士后苏彦涛与学院研究生以及美国劳伦斯伯克利国家实验室软X-射线站杨万里研究组积极合作,利用ALD技术沉积氧化铝(Al2O3)薄膜,对三元正极材料(LiNi0.5Mn0.3Co0.2O2)进行表面修饰,提高了材料在高截止电压(4.5 V)下的循环稳定性。结合X射线光电子能谱(XPS)、X射线吸收谱(XAS)、透射电子显微镜(TEM)以及电化学测试分析,揭示了材料循环稳定性提高的机理。
        该研究成果发表在ACS旗下的ACS Applied Materials and Interfaces (DOI:10.1021/acsami.5b05500 )杂志上(影响因子6.723)。

 


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文章链接: Yantao Su, Suihan Cui, Zengqing Zhuo, Wanli Yang, Xinwei Wang*, and Feng Pan*. “Enhancing the High-Voltage Cycling Performance of LiNi0.5Mn0.3Co0.2O2 by Retarding Its Interfacial Reaction with an Electrolyte by Atomic-Layer-Deposited Al2O3”, ACS Appl. Mater. Interfaces, Article ASAP (2015). DOI: 10.1021/acsami.5b05500.



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